穿梭在曆史大事件中的將軍_158 日韓半導體戰爭 首頁

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第一,辦理上官本位,三家歸併後,辦理崗亭的分派並不是遵循才氣和職能停止分派,而是,任何崗亭必然要共同參與,比如某一崗亭,一正一副,如果正職來自NEC,那麼日立必然是副職。這類辦理在當代企業生長史上也是奇葩了。

第二,研發文明的牴觸,特彆是技術途徑的分歧龐大。比如在64M進級到256M DRAM的技術攻關中,NEC誇大技術體係的同一性,要求在64M的根本上實現技術進級,而日立誇大技術的創新和衝破,要求采取新質料、新佈局等新技術尋求技術衝破。NEC以為同一機能包管較高的成品率,而日立則是優先考慮用新技術帶來衝破,再去研討同一性題目。NEC誇大同一性,而日立倡導衝破性,這是兩種完整分歧的研發文明,帶來的思惟體例完整分歧的,這使得DRAM關頭技術研發上,辯論不已、疲塌煩複,完整掉隊於韓國人的研發進度。

米國完美的人才培養體係,特彆是矽穀源源不竭的半導體人才,直到明天還是米國半導體整合電路晶片財產最貴重的資本,科技創新的源泉,科技紅利投入的有效包管。

1980年日本人發明256k DRAM,矽片直徑為125-150mm,晶片麵積為34.8mm2,整合度為555000,首要技術為三層多晶矽和冗餘技術。

第五研討室,三菱電機,開辟製程技術與投影暴光設備,室長:奧泰二。

第六研討室,NEC公司,停止產品封裝設想、測試和評價研討,室長:川路昭。

朝鮮戰役的發作,日本人獲得了米國的攙扶。

1978年日本人發明64k DRAM,其問世標記取超大範圍整合電路(VLSI)期間的到臨,矽片直徑為100-125mm,晶片麵積為26.6mm2,整合度為155000。首要技術為循環位線、摺疊數據線。

第三研討室,東芝公司,賣力EB掃描設備與製版影印設備,室長:武石喜幸。

在隨後的第二次、第三次環球半導體矽含量晉升週期中。

三家米國公司是英特爾、德州儀器和莫斯泰克。

日本人向米國粹習,在米國人的攙扶下開端建立本身完整的半導體產業體係,並構成了本身國度在科技衝破上的研發體係。

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