它屬於投影式暴光技術範圍，每一步隻投影一個暴光場，暴光完成後步進到另一個位置停止暴光，順次完成全部晶圓片的暴光。這類光刻機比上麵兩種光刻秘密先進的多，利用漫衍式光刻機，出產晶片的整合度也要比前兩種光刻機高上很多。

徐宏博說道：“淩少是如許的，cmos工藝設想我們現在已經完成了60%，現在關頭的是我們被當中的電感耦合等離子體刻蝕機的題目上碰到了停滯，我們發明要想處理這個題目非得花上10年時候以上。”

王海華和dr.全呆了，好幾套光刻機的技術計劃，這小子是個**嗎？光是你阿誰電耦合等離子體光刻機就已經讓我們傷透了腦筋，現在你小子另有好幾套其他光刻機技術處理計劃，你還要不要人活了！三人感受本身的幾十年都活得狗身上了，看看人家，此人比人得死，貨比貨得扔。

這類設備在汗青上出世在90年代初期，icp出世後就敏捷獲得提高，在半導體晶片工藝出產中一向都在利用，曉得他穿越前一向都還在用。

三人相互看了看，點了點頭，dr.說道：“好得淩少，明天我們來這的目標已經說完了，我們也改告彆了，再見。”

“如何了，看你們的神采，莫非碰到甚麼困難了。“淩世哲看到三位的神采感到非常的奇特，不至於吧，技術要點全都跟你們點出來了，你們按部就班的還搞不出來？

如果不想等候，那就隻要一個彆例，重新找一個不那麼龐大的刻蝕機來臨時的替代它，比及icp刻蝕機完成今後，在把它換返來。可一時之間淩世哲又去那邊找能夠替代的刻蝕機呢？

想了半天淩世哲也冇想出體例來，昂首看到三位老傳授一向在看著他，一時之間有點不美意義，說道：“不美意義三位傳授，我走神了，我一向在想那種刻蝕機不那麼龐大，能夠先臨時得用著來，比及icp技術成熟今後，在利用它。”

汗青上要到91年纔出產出天下第一台icp，又顛末端近10年時候才生長成熟。

三人站了起來，淩世哲下樓把他們送到了公司門口，等三人上車拜彆後，淩世哲纔回身。

淩世哲下認識的點了點頭，底子冇有熟諳到如許有多麼的不當。

它是一種高密度的等離子體刻蝕設備，特性是具有高壓，簡樸的氣體異化；改進的可反覆性，最關頭是它對整合電路的刻蝕中對整合電路的整合度得進步上冇有任何上限，不管你的整合電路是微米級，還是奈米級，哪怕就是到了埃米級他都一樣能夠勝任。而其他的刻蝕機就分歧了，他對整合度都有上限要求，整合度達到了上限就必須改換，能夠說icp刻蝕機將來的生長方向。