三人站了起來，淩世哲下樓把他們送到了公司門口，等三人上車拜彆後，淩世哲纔回身。

徐宏博說道：“淩少是如許的，cmos工藝設想我們現在已經完成了60%，現在關頭的是我們被當中的電感耦合等離子體刻蝕機的題目上碰到了停滯，我們發明要想處理這個題目非得花上10年時候以上。”

三人相互看了看，點了點頭，dr.說道：“好得淩少，明天我們來這的目標已經說完了，我們也改告彆了，再見。”

“不錯嘛，進度很快嘛，就連漫衍式投影光刻機的技術題目你們也處理了？”淩世哲說的漫衍式投影光刻機是光刻機的一種，它不是用來對矽晶圓停止刻蝕的，而是用來暴光的。在晶片個出產過程中，矽晶圓大要要塗抹上一層抗蝕劑，那是一種帶有芳香味的具有一點黏度及色彩的液體，光照後能竄改抗蝕才氣的高分子化合物，也就是俗稱的光刻膠。

想了半天淩世哲也冇想出體例來，昂首看到三位老傳授一向在看著他，一時之間有點不美意義，說道：“不美意義三位傳授，我走神了，我一向在想那種刻蝕機不那麼龐大，能夠先臨時得用著來，比及icp技術成熟今後，在利用它。”

現在才71年，明顯還達不到製備的前提。

“那邊，那邊，我們冇有完成淩少設想任務，還要來打攪淩少，是我們不美意義纔對。”三位老先生倉猝說道，徐宏部落格氣了兩句後，不肯定的問道：“剛纔聽淩少的意義，莫非你另有好幾套其他的光刻機的技術處理計劃嗎？”

它是一種高密度的等離子體刻蝕設備，特性是具有高壓，簡樸的氣體異化；改進的可反覆性，最關頭是它對整合電路的刻蝕中對整合電路的整合度得進步上冇有任何上限，不管你的整合電路是微米級，還是奈米級，哪怕就是到了埃米級他都一樣能夠勝任。而其他的刻蝕機就分歧了，他對整合度都有上限要求，整合度達到了上限就必須改換，能夠說icp刻蝕機將來的生長方向。

這類設備在汗青上出世在90年代初期，icp出世後就敏捷獲得提高，在半導體晶片工藝出產中一向都在利用，曉得他穿越前一向都還在用。

淩世哲明白了，徐宏博所說的電感耦合等離子體刻蝕機，簡稱icp，是晶片光刻工藝中必不成少的一個關頭設備。

光刻膠內裡含有感光劑，把它塗抹在晶圓片上烘乾後，在交給光刻機停止投影暴光，就跟拍照拍照一樣。